台積電2奈米機密如何外流？
檢方調查指出，曾任職台積電12廠良率部門的前工程師陳力銘，離職後跳槽至東京威力科創任職。當時東京威力正投入台積電2奈米設備測試與量產，但過程遇到技術瓶頸，陳力銘為協助新東家突破問題、爭取訂單，涉嫌找來仍在台積電任職的工程師吳秉駿、戈一平協助。
檢方指出，2人利用公務筆電遠端登入台積電內部資料庫，再由陳力銘以手機翻拍機密數據與測試資料，其中14張照片經鑑定涉及國家核心關鍵技術。之後陳力銘再將相關內容寫入東京威力內部文件，意圖協助量產開發。
此外，另一名工程師陳韋傑也被控借用同事帳號密碼登入資料庫，偷拍14奈米以下製程技術資料，再轉交陳力銘。案件爆發後，東京威力前主管盧怡尹則涉嫌刪除雲端硬碟中的相關檔案，遭依滅證罪起訴。
法院判決？有哪些人上訴？
智慧商業法院一審認定，多名被告涉犯《國安法》與《營業秘密法》。其中主嫌陳力銘遭重判10年徒刑，吳秉駿判刑3年、戈一平2年、陳韋傑6年。盧怡尹則因滅證罪判刑10月，獲緩刑3年，須支付公庫100萬元並接受法治教育。
至於東京威力科創部分，法院認為公司未善盡監督責任，但考量坦承犯行、配合偵查，且已與台積電達成和解，因此判處1.5億元罰金、緩刑3年，並須在1年內支付台積電1億元及公庫5000萬元。目前陳力銘、陳韋傑與盧怡尹已提起上訴，其餘被告及檢方是否續提上訴，仍待期限屆滿後確認。
